在持續進行的試運轉（Commissioning）過程中，L3 HAPLS 雷射系統以 28 飛秒（fs）的脈衝寬度輸出 26.6 焦耳（J）的能量，成功達成 0.95 拍瓦（Petawatt, PW） 的峰值功率。
此一結果超越了該系統在目前開發階段的預期表現，是該系統邁向完整設計參數過程中的重要運作里程碑。這項成就源自 ELI（歐洲極光設施） 與 勞倫斯利佛摩國家實驗室（LLNL） 之間的長期合作，雙方延續了在高功率雷射技術領域多年的共同經驗。
在 L3 HAPLS 雷射系統於 ELI 完成安裝後，來自這兩間機構的專家持續共同努力，在安全無虞的前提下，系統化地提升雷射功率，使其逐步接近預設的設計參數。這項任務的主要挑戰在於：在極高雷射輻射強度下運作的特殊光學元件效能，以及高功率短脈衝放大器的能量逐步提升。在如此高的強度下運作，必須在「極大化雷射輸出功率」與「維持承受最高負載之光學元件耐用度」之間取得精確平衡。
因此，聯合團隊對上一階段獲得的結果進行了深入分析與數值模擬，從而優化了具體的光學子系統，並提出了進一步的改善方案。最終取得的成果驗證了先前分析的預測，不僅展現出該雷射技術的龐大潛力，也證明了所採用的「漸進式功率提升策略」極為成功。
ELI Beamlines 執行長 Roman Hvězda 表示：「達到近 1 拍瓦的功率證明了該雷射可以在安全且可預測的情況下，逐步推升至其設計參數。這是將該系統投入日常例行全功率運作以進行科學實驗前，非常關鍵的一步。」
接下來將專注於將額定峰值功率進一步提升至 1 拍瓦並超越該界線，同時提高脈衝重複率（Repetition Rate）——首先達到 3.3 Hz，隨後提升至更高的頻率。這些運作條件將顯著提升該設施的科研能量，並使開展更多前瞻實驗成為可能。
新聞來源：Independent information about science and research
